辐射物理与技术——采用双等离子体制备非晶态碳膜的研究  

Investigation on amorphous carbon films fabricated by dual plasma technique

作　　者：王耀辉[1] 张旭 吴先映 徐元直 张荟星 张孝吉 

机构地区：[1]北京师范大学射线束技术和材料改性教育部重点实验室,北京100875 [2]不详

出　　处：《中国学术期刊文摘》2007年第18期133-133,共1页Chinese Science Abstracts(Chinese Edition)

摘　　要：采用直流金属磁过滤阴极真空弧（FCVA）制造出Ti和乙炔（C2H2）气体的双等离子体在单晶硅（100）上制备非晶态碳膜，重点研究了乙炔气体和过滤线圈电流对非晶态碳膜的结构、形貌和机械性能的影响，研究结果表明，薄膜中主要成分是TiC，并以（111）作为主晶向；随着过滤线圈电流的增大，薄膜的晶粒度越来越小；薄膜表面的粗糙度逐渐减小，变得更加平整；薄膜的应力减小，

关 键 词：非晶态碳膜 磁过滤阴极真空弧 过滤线圈电流 乙炔的体积流量 结构和性能 

分 类 号：O53[理学—等离子体物理]