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作 者:郑建华[1] 周锦兰[2] 田熙科[1] 冯文芳[2] 俞开潮[2]
机构地区:[1]中国地质大学材料科学与化学工程学院,湖北武汉430074 [2]华中科技大学化学与化工系材料化学与服役失效湖北省重点实验室,湖北武汉430074
出 处:《催化学报》2007年第9期755-757,共3页
基 金:国家自然科学基金(40172018;20675033)
摘 要:以N2和O2作载气,采用催化剂增强化学气相沉积法在聚砜上获得了Pt和Pd-Pt双层金属纳米薄膜.当使用Pd(hfac)2和Pt(COD)Me2为前驱体在同一反应器内共沉积时,只有Pt被沉积,铂和钯顺序沉积可以得到双层膜.聚砜上金属钯和铂微粒尺度为15-30 nm,双层膜厚度为120-180 nm.Catalyst-enhanced chemical vapour deposition of Pt and Pd-Pt bilayer films on polysulfone using N2 and O2 as the carrier gas was investigated. Only Pt was deposited when the mixture of complexes Pt(COD)Me2 and Pd(hfac)2 was used as precursors in the same chamber. Sequential deposition of two metals formed Pd-Pt bilayer films. The particle size of Pd and Pt on polysulfone is 15 - 30 nm, and the thickness of the bilayer is 120 - 180 nm.
关 键 词:催化剂增强化学气相沉积 聚砜 铂膜 钯-铂双层膜
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