低温等离子体在材料表面处理方面的应用和发展  

机构地区：[1]同创材料表面新技术工程中心

出　　处：《核工业西南物理研究院年报》2006年第1期90-91,共2页Southwestern Institute of Physics Annual Report

摘　　要：本文简要地介绍了同创材料表面新技术工程中心低温等离子体相关技术在材料表面处理的应用与发展以等离子体产生、离子源技术为基石，大力发展复合离子注入、复合离子沉积及镀膜设备和相关工艺。以离子源、多弧、磁控溅射等核心技术，多元化发展等离子体表面处理设备、产品和工艺。以国家自然科学基金等科研项目为依托，大力推进科研成果向工业和民用产品转化紧跟等高子体技术的国际发展，积极开拓国际市场，推进离子源、等离子体源等技术的标准化和国际化。

关 键 词：低温等离子体 应用与发展 

分 类 号：TM53[电气工程—电器]