高矫顽力CoFe_2O_4薄膜的研究进展及矫顽力机理分析  

Coercivity Mechanism and Research Progress of Highly Coercive CoFe_2O_4 Thin Films

作　　者：金沈贤[1] 钟智勇[1] 张怀武[1] 

机构地区：[1]电子科技大学微电子与固体电子学院,四川成都610054

出　　处：《磁性材料及器件》2007年第5期8-11,共4页Journal of Magnetic Materials and Devices

基　　金：国家自然科学基金资助项目(60490296;60671029;90306015)

摘　　要：矫顽力是钴铁氧体薄膜作为高密度磁记录以及磁光记录介质的重要指标。本文综述了激光脉冲沉积法和磁控溅射法制备的高矫顽力(大于400kA/m)钴铁氧体薄膜材料的国内外研究进展,并对其高矫顽力的产生机理进行了分析。The coercivity of cobalt ferrite thin film is one of the most important properties in applications for high density magnetic recording and magneto-optical recording. The research progress of high coercivity （higher than 400kA/m） cobalt ferrite thin films that mainly prepared by pulse laser deposition （PLD） and magnetron sputtering were summarized and the mechanism of high coercivity of these films was analysed in this paper.

关 键 词：钴铁氧体薄膜 磁记录 磁光记录 矫顽力 

分 类 号：TM277[一般工业技术—材料科学与工程] O484.43[电气工程—电工理论与新技术]