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出 处:《药物分析杂志》2007年第11期1756-1759,共4页Chinese Journal of Pharmaceutical Analysis
基 金:国家自然科学基金资助课题(No.20273058)
摘 要:目的:研究甲巯咪唑在酞菁钴(CoPc)修饰碳糊电极上的电化学行为并测定其含量。方法:循环伏安(CV)法和示差脉冲伏安(DPV)法。结果:在 pH=7.0、修饰电极中 CoPc 含量为6.25%(w/w)、富集电位-0.3 V(vs SCE)、富集时间40 s 的条件下,甲巯咪唑的氧化峰电流(i_p)与其浓度在2.0×10^(-6)~7.0×10^(-4)mol·L^(-1)范围内呈良好的线性关系,检出限为0.3 μmol·L^(-1)。结论:该方法应用到实际样品含量测定,其结果令人满意。Objective:The electrochemical behavior and determination of methimazole on cobalt (Ⅱ )phthalocyanine modified carbon paste electrode was investigated. Methods:Cyclic voltammetry(CV) and differential pulse voltammetry(DPV). Results:Carbon paste electrode at pH 7.0 modified with 6.25% (w/w)cobalt(Ⅱ)phthalocya- nine and accumulated at the potential -0. 3 V (vs SCE) for 40 s, an excellent linear calibration graph was obtained over the methimazole concentration range 2.0×10^-6 -7.0×10^-4mol·L^-1. The detection limit of methimazole detected 0. 3 μmol·L^-1. Conclusion:This method is satisfactorily applied into the determination of methimazole in pharmaceutical preparations.
分 类 号:R917[医药卫生—药物分析学]
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