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机构地区:[1]中国科学院长春光学精密机械研究所
出 处:《人工晶体学报》1997年第3期414-414,共1页Journal of Synthetic Crystals
摘 要:晶体生长炉内气氛在一定条件下会产生静电放电,本文就其产生原因做一初步探索。众所周知,电介质中,气体的介电常数比液体或固体的小,在一定条件下比较低的电压就能产生放电。靠近气体的电介质表面上积累起静电荷时,表面上产生电场,它的强度按高斯定理是与表面电荷成正比的。如果表面电荷超过一定密度,由于静电就发生放电。炉内气氛放电形式主要是电晕放电。它是从导体前端射向气体的气体电晕,或者从导体前端发出并沿着固体电介质表面延射的沿面电晕,此外,与导体无关的电介质层间发生的沿面电晕,包括空隙放电和无声放电。沿面电晕主要是发生在气体中的放电。电晕放电同时在气体中产生分子的电离,产生许多电子和正离子。电子被电场加速向带正电部分运动;正离子被电场加速向带负电部分运动。电子(或负电子)和正离子相互进入极性相反的带电部分,而在这里被中和,失去电荷并停止放电。这在实际生长晶体时,发现电流突然增大又立即回复就属此种情况;由于静电引起带电而开始积累电荷,当表面电场超过击穿电场产生放电,这种过程反复进行形成间歇放电。它的周期由于带电速度加快而缩短。当带电速度快到某个值时,放电在瞬时内完全消失。一会强,一会弱的反复进行。在晶体生长中有时会遇到这样?
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