基于聚合物修饰的温度敏感金纳米通道阵列膜  

作　　者：羊小海[1] 吴迎奔[1] 王青[1] 王柯敏[1] 王胜锋[1] 

机构地区：[1]湖南大学生物医学工程中心

出　　处：《科学通报》2007年第23期2729-2733,共5页Chinese Science Bulletin

基　　金：国家重点基础研究发展计划(批准号:2002CB513110);科技部国际合作重点项目(批准号:2003DF000039);国家自然科学基金(批准号:90606003;20475015)资助

摘　　要：通过在金纳米通道阵列膜上修饰聚N-异丙基丙烯酰胺(PNIPAm)分子,发展了一种温度敏感的纳米通道阵列膜.以荧光素钠和水溶性量子点为探针,考察了这种膜在不同温度下的渗透性.结果表明,该PNIPAm分子修饰的膜能够可逆地响应外界温度的变化,使纳米通道的孔径大小被改变,进而影响膜的渗透性.当温度为25℃(<低临界溶液温度,LCST)时,荧光探针的渗透较慢,甚至基本上被阻止,这是因为PNIPAm分子呈现膨胀构象使通道尺寸变小所致;而当温度为40℃(>LCST)时,荧光探针的渗透明显加快,这是因为PNIPAm分子呈现紧缩构象使通道尺寸变大所致.这种温度敏感的金纳米通道阵列膜的渗透性可以被可逆地调控,有望用于纳米级阀门等装置.

关 键 词：金纳米通道阵列膜 温度敏感 聚N-异丙基丙烯酰胺 

分 类 号：TB383.1[一般工业技术—材料科学与工程]