宽台栽培大豆根系特点及施肥位置效应  

作　　者：何庸[1] 孙广玉[1] 朱廉[1] 张荣华[1] 

机构地区：[1]黑龙江省农垦科学院作物所

出　　处：《现代化农业》1997年第9期7-9,共3页Modernizing Agriculture

摘　　要：根据黑龙江垦区大豆宽台栽培联网试验，以及大豆根系活性在土壤中的动态分布研究，优化了大豆的施肥位置。宽台施肥位置为：①种肥分散在种下２ｃｍ左右，占总肥量的１／４～１／３，用于催苗和壮根；②基肥施在台上植株行间，深度为５～１５ｃｍ，距两侧主根１５ｃｍ左右，占总肥量的２／３～３／４，用于提高花期、结荚期。

关 键 词：大豆 宽台栽培 根系活性 施肥位置 栽培 

分 类 号：S565.104[农业科学—作物学]