水稻耐光氧化特性的QTL定位  

QTL Mapping of Tolerance to Photooxidation in Rice

作　　者：姜华[1] 姜亮[2] 赵江红[1] 郭龙彪[2] 孙焕明[1] 薛大伟[3] 曾龙军[1] 曾大力[2] 梁国华[1] 钱前 

机构地区：[1]扬州大学教育部植物功能基因组学重点实验室,江苏扬州225009 [2]中国水稻研究所水稻生物学国家重点实验室,浙江杭州310006 [3]浙江大学农业与生物技术学院农学系,浙江杭州310029

出　　处：《中国水稻科学》2008年第1期38-44,共7页Chinese Journal of Rice Science

基　　金：国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目(2005CB102807);国家高技术研究发展计划(863计划)资助项目(2006AA10A102)

摘　　要：利用由127个株系组成的来源于籼稻品种窄叶青8号和粳稻品种京系17的加倍单倍体群体,以耐性指数和敏感性指数为指标,采用QTL Mapper 1.6统计软件进行水稻耐光氧化反应特性的QTL定位和上位性分析,共检测到控制耐性指数的1个加性效应QTL,位于第3染色体上;控制敏感性指数的加性效应QTL5个,分别位于第1、1、6、8和9染色体上。还检测到3对影响耐性指数的加性×加性上位性互作效应QTL和5对敏感性指数的上位性QTL。还对41个水稻材料进行了光氧化实验筛选。A doubled haploid （DH） population including 127 lines, derived from the cross between an indica rice Zhaiyeqing 8 and a japonica rice Jingxi 17 was used to detect quantitative trait loci （QTLs） of tolerance to photooxidation. One QTI. controlling tolerance index （TI） was detected on chromosome 1 and five QTI.s controlling sensitivity index （SI） for photooxidation tolerance were mapped on chromosomes 1, 1, 6, 8 and 9, respectively. Meanwhile, eight pairs of epistatic loci affecting TI and Slwerealso detected （three pairs forTI and five pairs for SI）. Besides, 41 rice varieties wereindentified for photooxidation tolerance and sensitivity indices.

关 键 词：水稻 光氧化 加倍单体群体 数量性状座位 耐性指数 敏感性指数 

分 类 号：S511[农业科学—作物学]