核黄素光敏损伤端粒DNA单链及端粒酶RNA亚基机理研究  

作　　者：刘玉侠[1] 杜富强[1] 林维真[1] 屠铁城[1] 李文新[1] 林念芸[1] 

机构地区：[1]中国科学院上海应用物理研究所核分析科学与技术研究室,上海201800

出　　处：《自然科学进展》2008年第1期114-117,共4页

基　　金：国家自然科学基金(批准号:20133020);上海市科委光科技专项重点基金(022261014)资助

摘　　要：采用电子自旋共振(ESR)消减法及光切割法对核黄素激发三重态单电子氧化寡聚核苷酸的机理进行了探讨.结果表明:UVA光照下,作为内源性光敏剂的核黄素能够高效切割端粒DNA单链及端粒酶RNA亚基用于合成端粒DNA的模版区,从根本上阻断端粒酶维持癌细胞端粒DNA长度的反转录过程,促使癌细胞凋亡.

关 键 词：端粒 端粒酶 核黄素(Rb) ESR自旋消减法 激发三重态 

分 类 号：Q55[生物学—生物化学]