电化学方法测定金属镀层孔隙度  

作　　者：马廷春[1] 温国谋[1] 方炳福[1] 

机构地区：[1]中国科学院福建物质结构研究所二部

出　　处：《表面技术》1997年第4期32-34,共3页Surface Technology

摘　　要：介绍了电化学方法测定金属镀层孔隙度的原理和最近发展。

关 键 词：孔隙度 泄漏电流 镀层 电镀 金属 测定 

分 类 号：TQ153[化学工程—电化学工业]