Fujifilm导入ArF液浸曝光装置以加强先进光刻胶业务  

出　　处：《集成电路应用》2008年第3期44-44,共1页Application of IC

摘　　要：Fujifilm日前宣布，面对业界大型半导体厂家开始量产45nm生产工艺产品，公司将导人液浸ArF曝光设备，以进一步加大开发力度，扩大业界最尖端ArF用光刻胶业务。

关 键 词：FUJIFILM ARF 光刻胶 曝光装置 业务 导入 工艺产品 曝光设备 

分 类 号：TN912.3[电子电信—通信与信息系统] TB852.1[电子电信—信息与通信工程]