应用于金属蒸气激光器的磁约束溅射放电理论模型  

A MODEL OF THE MAGNETICALLY CONFINED SPUTTERING DISCHARGE USED FOR METAL VAPOR LASERS

作　　者：李军[1] 陈清明[1] 李再光[1] 

机构地区：[1]华中理工大学激光技术国家重点实验室

出　　处：《物理学报》1997年第8期1479-1486,共8页Acta Physica Sinica

基　　金：国家自然科学基金

摘　　要：在分析磁约束溅射放电特性的基础上建立了相应的理论模型，给出了金属原子的平均密度与放电电流密度的关系，以及平衡态金属原子密度的空间分布特点．A model is presented for the magnetically confined sputtering discharge which is being examined to be used in metal vapor lasers.The current density and spatial dependences of the metal vapor density are described.The predictions are found to be in agreement with the experiments.

关 键 词：金属蒸气激光器 磁约束 溅射放电模型 激光器 

分 类 号：TN248[电子电信—物理电子学]