涂层衬底的生产方法  

机构地区：[1]列支敦士登尤纳克西斯巴尔策斯公司

出　　处：《表面技术》2008年第2期55-55,共1页Surface Technology

摘　　要：本发明涉及一种方法，用于生产以材料处理的衬底，依此法：a）至少一个衬底被送入到一个抽空的真空接受器（真空室）中；b）待处理的衬底表面被曝露在一种反应气体下，反应气体被吸附在衬底表面上；C）结束衬底表面在反应气体下曝露；d）被吸附在衬底表面上的反应气体起反应，其特征在于；1）带有被吸附的反应气体的衬底表面被置于一个低能量的等离子体放电下，以其在衬底表面上的离子能量E10为0eV〈E10≤20eV，以其电子能量Eeo为0eV〈Eeo≤100eV；2）被吸附的反应气体至少在由等离子体产生的离子和电子的共同作用下起反应。

关 键 词：衬底表面 生产方法 等离子体放电 反应气体 涂层 等离子体产生 电子能量 材料处理 

分 类 号：TN304.12[电子电信—物理电子学] TL631.24[核科学技术—核技术及应用]