一种等离子化学气相沉积镀膜方法和设备  

机构地区：[1]北京航空航天大学

出　　处：《表面技术》2008年第2期84-84,共1页Surface Technology

摘　　要：本发明中等离子化学气相沉积镀膜方法和设备包括：传统的可抽成真空的炉体；将汽化的、含有金属氯化物的和其它工作气体通入所述真空炉体内的装置；放置在真空炉体中的被镀工件与电极阴极相连，将炉体与阳极相连。阳极接地，阴极施加负电压，将电压升高到一定程度后，阴、阳级之间产生辉光等离子场；在所述炉内设置一个能喷出等离子炬的电弧喷枪。电弧喷枪喷出的等离子炬直接进入到辉光等离子场中。

关 键 词：等离子化学气相沉积 镀膜方法 设备 等离子场 电弧喷枪 等离子炬 金属氯化物 真空炉 

分 类 号：TN304.18[电子电信—物理电子学] TP212.1[自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]