热冲击对γ-TiAl基合金显微组织的影响  

EFFECT OF HEATING SHOCK ON THE MICROSTRUCTURE OF γ-TiAl BASE ALLOY

作　　者：裴延玲[1] 赵勇[1] 马岳[1] 宫声凯[1] 徐惠彬[1] 

机构地区：[1]北京航空航天大学材料科学与工程学院,北京100083

出　　处：《金属学报》2008年第5期565-568,共4页Acta Metallurgica Sinica

摘　　要：研究了利用红外辐照快速加热(热冲击)与时效处理对γ-TiAl基合金显微组织的影响.结果表明,热冲击可将片层团平均尺寸为300μm、片层间距为1.3μm的粗大铸态近全片层组织处理成为片层团界面平直、片层间距为140 nm的亚稳态组织.经过1260℃,6 h时效处理后.形成片层团平均尺寸为40μm、锯齿状片层团界面的稳态全片层组织.Microstructural changes of a near fully lamellar γ-TiAl base alloy after heating shock and ageing treatment have been investigated. After infrared heating treatment, the coarse and fully lamellar （FL） structure （lamellar cluster size 300 μm, lamellar spacing 1.3μm） of as-cast γ-TiAl base alloy became a substable structure with extreme fine lamellar spacing （140 nm） as well as flat lamellar boundaries which could be transformed to a stable, fine, fully lamellar microstructure （lamellar cluster size 40 μm） after 1260 ℃, 6 h ageing treatment.

关 键 词：Γ-TIAL 热冲击 片层间距 片层团 组织稳定性 

分 类 号：TG132.32[一般工业技术—材料科学与工程]