高能X-射线数字平板成像系统中的射线背散射问题探讨  

Background scatter in high energy X-ray digital radiographic imaging system

作　　者：郭彦斌[1] 王非[1] 王文生[1] 

机构地区：[1]北京机械工业自动化研究所,北京100011

出　　处：《制造业自动化》2008年第5期21-23,共3页Manufacturing Automation

摘　　要：通过实例介绍了高能X-射线数字平板成像系统受射线背散射的影响,并给出解决的办法,供参考。This paper introduce the Influence of the Background scatter ＆ solutions in high energy X-ray digital radiographic imaging system.

关 键 词：高能X-射线数字平板成像系统 背散射 铅屏蔽 

分 类 号：TN14[电子电信—物理电子学]