有机溶剂诱导的多孔硅光致发光猝灭机理  

作　　者：晋卫军[1] 沈国励[1] 俞汝勤[1] 

机构地区：[1]湖南大学化学计量学与化学传感技术研究所化学化工学院,长沙410082

出　　处：《科学通报》1997年第19期2123-2124,共2页Chinese Science Bulletin

摘　　要：1990年多孔硅室温可见光发射的报道引起了科技界的极大关注.现已形成了一个对硅材料研究很活跃的领域.目前的研究焦点主要集中在以下几方面:(1)发光机理的探讨;(2)改善发光的稳定性,提高发光的量子产率及制备各色光的多孔硅量子线阵列;(3)研制多孔硅光电器件;(4)发光的化学碎灭特性及其应用的研究. 我们研究了三类有机溶剂对多孔硅光致发光的猝灭作用。烷烃不猝灭发光(包括环己烷、正庚烷和溴乙烷等),而且还有很弱的增敏作用.但苯具有弱的猝灭效应.气相浓度(以氮气作稀释气体)为 1.9 × 10^(-3) mol/L时,猝灭了发光强度的15％,猝灭过程光谱没有蓝移或红移.含氧有机溶剂,包括甲醇、乙醇、四氢呋喃、二氧六环、环氧氯丙烷、乙醚、苯甲醚、乙酸乙酯、乙酸甲酯、丙酮和丁酮等。

关 键 词：有机溶剂 多孔硅 光致发光 猝火作用 

分 类 号：TN204[电子电信—物理电子学]