下降液膜孤波分析  

Study on Stationary Waves on Falling Liquid Film

作　　者：丁四中[1] 段日强[1] 姜胜耀[1] 

机构地区：[1]清华大学核能与新能源技术研究院先进反应堆工程与安全教育部重点实验室,北京102201

出　　处：《原子能科学技术》2008年第6期525-529,共5页Atomic Energy Science and Technology

基　　金：国家自然科学基金资助项目(50476008);国家自然科学杰出青年基金资助项目(50325620)

摘　　要：文章以Ooshida Takeshi液膜厚度规范化公式为基础,用Auto2000连续与分叉软件研究中等雷诺数下的下降液膜表面单峰和双峰两种类型孤波波形。计算给出了孤波波速与雷诺数之间的关系曲线,该曲线与文献中的理论和实验结果相吻合。计算结果表明,这两种类型孤波的波幅均随着雷诺数的增加而增加,随着韦伯数的减少而增加。Based on Ooshida Takeshi equation, the evolutions of both single and double hump solitary waves on falling film at moderate Reynolds number are analyzed using the Auto2000. The dependence of wave velocity on Reynolds number is analyzed, and the results are in agreement with the previous theoretical and experimental results. Meanwhile, it is revealed that the amplitude of both solitary waves increases with Reynolds number, while decreases with Weber number.

关 键 词：孤波 下降液膜 雷诺数 韦伯数 

分 类 号：O357[理学—流体力学]