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机构地区:[1]西安交通大学动力工程多相流国家重点实验室,西安710049
出 处:《人工晶体学报》2008年第3期561-567,共7页Journal of Synthetic Crystals
基 金:国家自然科学基金重点资助项目(No:50336040);新世纪优秀人才支持计划(NCET-04-0923)
摘 要:以GeSi半导体合金为例,采用准稳态模型数值研究了理想垂直Bridgman装置-原型炉中二元合金单晶生长过程的热质对流现象,分析了热瑞利数、生长炉绝热区长度对热质对流、熔体径向溶质分凝的影响规律。结果表明,原型炉中熔体的流动结构随热瑞利数的变化出现三种截然不同的形式;热质对流的驱动力是生长炉热边界条件不连续性引起的径向温度梯度;随着熔体流动强度的增加,径向溶质分凝变化出现两个极小点。The thermosolutal convection during the growth of binary alloys in the ideal vertical Bridgman configuration,the prototype furnace,is numerically studied with pseudo-steady-state model.The effects of thermal Rayleigh Number and the length of adiabatic zone on the thermosolutal convection and radial solute segregation during the GeSi single crystal growth were analyzed.Firstly,there are three distinct flow patterns in the prototype furnace when thermal Rayleigh Number increases.Secondly,the driving force of the thermosolutal convection in the prototype furnace is the radial temperature gradient caused by the discontinuity of the lateral thermal boundary condition.Finally,the radial solute segregation in the prototype furnace has two minima as flow intensity increases.
关 键 词:垂直Bridgman装置 热质对流 径向温度梯度 径向溶质分凝
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