萘并吡喃化合物的结构改性及其光敏性质研究  

Structural Modification and Photosensitization Study of Naphthopyran Compounds

作　　者：符定良[1] 孟庆华[1] 张万斌[1] 黄德音[1] 

机构地区：[1]上海交通大学化学化工学院,上海200240

出　　处：《信息记录材料》2008年第4期3-6,共4页Information Recording Materials

基　　金：上海市科委纳米专项资助项目(0752nm016)

摘　　要：通过缩合反应对萘并吡喃结构进行了结构改性,合成了新的萘并吡喃类化合物,分别测定了产物的熔点及计算了产率,其结构经红外光谱、核磁共振和质谱进行了结构确证。并对产物的二氯甲烷溶液在254 nm紫外灯光照前后的紫外吸收进行了测量,结果表明这些化合物显示了良好的光敏变色性能。The naphthopyrans compounds were structurally modified and characterized by IR,^1H-NMR and MS methods. The photosensitization study of the novel products were carried out via the ultraviolet radiation at the wavelength of 254 nm.

关 键 词：光敏 萘并吡哺 结构改性 

分 类 号：TQ241.52[化学工程—有机化工]