双羟基桥联配合物的合成与性能研究  

作　　者：高彦芳[1] 陈亮[1] 陈敬中[1] 郑广[1] 

机构地区：[1]中国地质大学(武汉)材料科学与化学工程学院,湖北武汉430074

出　　处：《现代商贸工业》2008年第8期383-384,共2页Modern Business Trade Industry

摘　　要：将在合成双羟基桥联[Cu(phen)(H2O)(OH)]2(C8H4O4).8H2O配合物的基础上通过红外光谱分析了晶体结构和性能以及热化学行为,采用SQUID Quantum Design Model MPMS-7型磁强度计在2-300K区间内对配合物进行了变温磁化率的测试,采用最小二乘法和自旋Hamiltonian算符■=-2J■1■2表示铜之间的自旋磁交换作用导出Cu(Ⅱ)-Cu(Ⅱ)体系的理论磁化率方程,使用磁方程公式采用最佳拟合技术拟合实验值,利用经验公式计算得磁参数为:J=90cm1,朗德因子g=2.

关 键 词：双核铜 双羟基桥联 合成 晶体结构 磁化学性能 

分 类 号：O65[理学—分析化学]