第二代红外焦平面列阵用大面积外延HgcdTe生长技术  

作　　者：Higgi.,W 高国龙 

出　　处：《红外》1990年第11期1-8,共8页Infrared

关 键 词：IRFPA HGCDTE 外延生长 薄膜 

分 类 号：O782.9[理学—晶体学]