外加磁场中镍线纳米点接触的电镀制备研究  

The research of ballistic magnetoresistance effect in nickel nanocontacts

作　　者：徐德华[1] 狄国庆[1] 

机构地区：[1]苏州大学物理科学与技术学院,江苏苏州215006

出　　处：《苏州大学学报（自然科学版）》2008年第3期60-64,共5页Journal of Soochow University(Natural Science Edition)

基　　金：江苏高校自然科学重大基础研究项目(05KJA43006)

摘　　要：在传统的电镀沉积纳米镍点接触方法的基础上,在电镀时外加一个恒定的磁场,改变了其纳米点结的微观磁结构,改善了样品的成功率和重复性.这种性能的改善被认为是在电镀过程中的纳米镍晶在外磁场下择优取向所致,这种择优取向引起了纳米点结的磁畴结构的变化,从而揭示了纳米点接触中的弹道磁电阻效应.We have used an external magnetic field during traditional electrochemical deposition of the Ni nanocontacts. This improvement converted the microstrncture of the ballistic Ni nanoconstriction and improved the poor reproducibility. We attribute these phenomenon to the preferred orientation under the external magnetic field during the eleltrodeposition. The domain-wall （DW） is definitely affected by the orientation ,this indicates the ballistic magnetoresistance effect arises just at the nanocontact.

关 键 词：纳米点接触 弹道磁电阻 纳米点结 

分 类 号：O482.54[一般工业技术—材料科学与工程]