镀铑液中铑和其它金属杂质的测定  

Determination of rhodium and other metallic impurities in rhodium-plating bath

作　　者：陈静静[1] 范义春 

机构地区：[1]中山火炬职业技术学院,广东中山528436 [2]江苏省常州市钯金科技有限公司,江苏常州213016

出　　处：《电镀与涂饰》2008年第8期28-29,共2页Electroplating & Finishing

摘　　要：介绍了镀铑液中铑的重量分析法──高纯锌粉还原法与仪器分析方法──电感耦合等离子发射光谱(ICP-AES)。对这2种方法进行了对比,并且给出了ICP-AES法测定镀铑液中的微量铜、镍、铁、锌、铅等杂质的最佳测试条件。2种分析方法都具有准确、重现性好、相对标准偏差小的优点。The determination of Rh in Rh-plating bath by weighing method - reduction by high-purity Zn powder and instrumental analysis - inductively coupled plasmaatomic emission spectroscopy （ICP-AES） was introduced and compared. The optimal conditions for determining the contents of metallic impurities （such as Cu, Ni, Fe, Zn and Pb） by ICP-AES method were given. Both methods have advantages of accuracy, good reproducibility and low RSD.

关 键 词：镀铑 杂质 测定 重量法 电感耦合等离子发射光谱 

分 类 号：O655.1[理学—分析化学] O657.31[理学—化学]