p-ZnO薄膜的制备及其微结构测试与分析  

The Preparation of p-type ZnO Films and Their Microstructure Measurement and Analysis

作　　者：陈毅湛[1] 丁瑞钦[1] 朱慧群[1] 黎扬钢[1] 丁晓贵[2] 杨柳[3] 黄鑫钿[3] 齐德备[4] 谭军[3] 

机构地区：[1]五邑大学薄膜与纳米材料研究所,广东江门529020 [2]五邑大学数理系,广东江门529020 [3]五邑大学信息学院,广东江门529020 [4]五邑大学机电系,广东江门529020

出　　处：《五邑大学学报（自然科学版）》2008年第3期10-13,共4页Journal of Wuyi University(Natural Science Edition)

基　　金：广东省自然科学基金资助项目(04011770);江门市科技计划资助项目(江财企[2004]59号)

摘　　要：报道了几种不同的p型ZnO薄膜的制备工艺对其薄膜微观结构的影响.结果表明:ZnO薄膜的结晶度、C轴取向程度、内应力均与制备工艺条件有密切的关系,并对这些关系的机理做了分析和探讨.In this article, the effect of several kinds of technique for preparing p-ZnO films on the mierostructure of the films is studied and reported. The study results indicate that the preparation techniques deeply affect the crystallinity, C axis orientation and inner stress of ZnO film. Besides, the mechanisms have also been discussed and analyzed.

关 键 词：p-ZnO薄膜 退火工艺 X射线衍射 

分 类 号：O614.24[理学—无机化学] O657[理学—化学]