高分子染料的光稳定性研究  

A Study on the Photostabilization of Polymeric Dye

作　　者：唐炳涛[1] 张淑芬[1] 徐华[1] 杨锦宗[1] 王杰雄[1] 

机构地区：[1]大连理工大学精细化工国家重点实验室,大连116012

出　　处：《染料与染色》2008年第4期16-22,共7页Dyestuffs and Coloration

基　　金：国家杰出青年科学基金(20525620);大连理工大学青年教师培养基金(893227)

摘　　要：光稳定性是衡量高分子染料的一个重要指标,而高分子染料的光稳定性主要与高分子骨架结构、染料母体结构及着色工艺等因素有关。本文详细分析了高分子染料光褪色的原因及机理,并针对影响高分子染料光稳定性的各因素,提出相应的改进措施。Photostabilization is an important property of polymeric dye, which is affected by the polymer, dye structure and dyeing method. The photofading mechanisms of the polymeric dye were discussed and the method to improved light fastness was proved.

关 键 词：高分子染料 光稳定性 光褪色 

分 类 号：TQ610.1[化学工程—精细化工]