检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
机构地区:[1]北京航空航天大学
出 处:《航空工艺技术》1997年第4期26-27,共2页Aeronautical Manufacturing Technology
基 金:国家自然科学基金
摘 要:介绍了 PCVD 表面强化设备的发展概况及一种新研制开发的工业生产型 PCVD 工模具表面强化设备。用该设备可以制备 TiN 系薄膜和 TiSiN,TiAlN 等多元系薄膜;批量处理各类金属切削刀具和模具,显著提高工模具的使用寿命。The development of PCVD(Plasma Aided Chemical Vapour Deposition)equipment is reviewed and a new type of equipment for mass production is introduced,by which TiN,TiSiN and TiAIN films can be made,and vari- ous cutting tools and dies can be treated in batches.The service life of tools and dies can be markedly prolonged.
关 键 词:PCVD设备 工具 模具 表面强化 等离子体涂层
分 类 号:TG174.442[金属学及工艺—金属表面处理]
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