高能辐射照相中“屏片”系统的MonteCarlo模拟  

作　　者：刘军[1] 刘进[1] 施将君[1] 刘瑞根[1] 管永红[1] 肖智强[1] 

机构地区：[1]中国工程物理研究院流体物理研究所105室,四川绵阳621900

出　　处：《高能量密度物理》2008年第3期102-107,共6页High Energy Density Physics

摘　　要：在简述“屏片”图像接收系统成像原理的基础上，讨论了薄介子中能量沉积的模拟方法。针对实际照相模型，研究了直穿光子和散射光子在“屏片”系统中的响应特性。结果表明，对于“屏片”系统，金属增感屏出射面的电子通量是决定X射线能量转换效率的主要因素；适当增加金属增感屏的厚度，有助于降低散射的影响，但也在一定程度上增加了图像本底；金属增感屏厚度为0．4mm左右时，金属增感屏对直穿光子的局部增感效果最好。

关 键 词：“屏片”系统 能量沉积 转换效率 点扩展函数 

分 类 号：O484.1[理学—固体物理] TN943.3[理学—物理]