离子减薄后NiAl_3合金相中调制结构的高分辨电子显微学研究  

HREM STUDY ON A MODULATION STRUCTURE IN NiAl_3 AFTER ION ETCHING

作　　者：陈厚文[1] 王蓉[1] 

机构地区：[1]北京科技大学材料物理与化学系,北京100083

出　　处：《金属学报》2008年第10期1153-1156,共4页Acta Metallurgica Sinica

基　　金：中国石油化工股份有限公司资助项目~~

摘　　要：利用像解卷方法对3 keV氩离子减薄后合金相NiAl_3中出现的一维无公度调制结构进行了研究.分析了调制结构的形成机理,提出该调制基本属于成分调制.A one-dimensional incommensurate modulation structure was observed in NiAl3 after 3 keV Ar^＋ ion etching and studied by image deconvolution in high resolution electron microscopy （HREM）. The structure is proposed to be a type of compositional modulations.

关 键 词：调制结构 NIAL3 离子减薄 高分辨电子显微学(HREM) 像解卷 

分 类 号：TG146.1[一般工业技术—材料科学与工程]