半导体二氧化钛光催化氧化的研究进展  

Research progress of photocatalytic oxidation of semiconductor TiO_2

作　　者：段建田[1] 魏世强[1,2] 刘峰[3] 

机构地区：[1]西南大学 环境科学与工程系,重庆400715 [2]重庆市农业资源与环境重点实验室,重庆400716 [3]中国人民武装警察部队学院 消防指挥系,河北廊坊065000

出　　处：《化学工业与工程技术》2008年第5期30-35,共6页Journal of Chemical Industry & Engineering

摘　　要：介绍了二氧化钛光催化氧化的基本原理,分析了光催化氧化的影响因素。阐述了光催化剂的固定方法及降解有机污染物的现状及发展方向,并提出了光催化氧化技术未来的发展趋势。The basic principle of TiO2 photocatalytic oxidation is introduced. The influencing factors for photocatalytic oxidation are analyzed. The catalyst fixed way and the present situation and development direction of degradating organic pollutants is expounded, and the development tendency of the photochemical catalysis oxidation technology is proposed.

关 键 词：半导体 二氧化钛 光催化氧化 有机污染物 

分 类 号：X703[环境科学与工程—环境工程]