应用物理学  

出　　处：《中国学术期刊文摘》2008年第21期64-64,共1页Chinese Science Abstracts(Chinese Edition)

摘　　要：光分插复用及实验系统的研究；单晶铜线材在冷拉拔变形过程中的组织演化；Study of OADM and experimental system

关 键 词：应用物理学 离子束增强沉积 光分插复用 单晶铜线材 纳米多层膜 实验系统 组织演化 变形过程 

分 类 号：TG146.21[一般工业技术—材料科学与工程] O59[金属学及工艺—金属材料]