检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:张鸿[1] 彭斌[1] 屈啸[1] 蒋波[1] 李志成[1]
机构地区:[1]中南大学材料科学与工程学院,湖南长沙410083
出 处:《电子元件与材料》2008年第12期25-26,29,共3页Electronic Components And Materials
基 金:教育部留学回国人员科研启动基金资助项目(No.2006331;No.20071108);教育部高校博士点专项科研基金资助项目(No.20070533119)
摘 要:利用共沉淀方法制备了Al掺杂SnO2材料。并通过XRD与R-t特性测试仪,研究其相结构与R-t特性。结果表明:600℃煅烧获得了高纯、四方相的Al掺杂SnO2,其晶粒度为9.8nm;且具有良好的NTC效应,材料常数为4484K。利用半导体热力学理论讨论了Al掺杂SnO2材料的NTC特性机理。Al-doped SnO2 material was prepared by coprecipitation method. And its phase structure and R-t characteristic were investigated by XRD and R-t characteristic tester. The results show that high pure tetragonal phase of Al-doped SnO2 with the crystallite of 9.8 nm is obtained by calcination at 600 ℃, and the materials have a good effect of negative temperature coefficient of resistance with the material constants of 4 484 K. The mechanism for NTC characteristic is discussed by using thermodynamics theory of semiconductor.
分 类 号:TB381[一般工业技术—材料科学与工程]
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