光敏微晶玻璃-PDMS微流控芯片制备及电渗性能研究  

Preparation and Study on Electroosmosis Performance of Photo-active Glass-ceramic/PDMS Microfluidic Chips

作　　者：程莉莉[1,2] 王升高[1,2,3] 邓晓清[1,2] 余冬冬[1,2] 李艳琼[1,2] 汪建华[1,2,3] 

机构地区：[1]湖北省等离子体化学与新材料重点实验室,武汉430074 [2]武汉工程大学材料科学与工程学院,武汉430074 [3]绿色化工过程省部共建教育部重点实验室,武汉430074

出　　处：《微细加工技术》2008年第5期24-26,共3页Microfabrication Technology

基　　金：国家自然科学基金(50572075);武汉市科技攻关项目(200710421119);武汉工程大学研究生创新基金资助

摘　　要：以光敏微晶玻璃和PDMS为材料,通过光化学加工和等离子体改性,制备了光敏微晶玻璃-PDMS微流控芯片,并对该芯片的电渗性能进行了初步的研究。结果表明,该芯片的制作工艺简单,且电渗性能稳定。芯片的电渗速度随缓冲液浓度的增大而增加,表面活性剂的加入可以改善电渗速度,电压在1.8 kV内与电渗速度具有线性关系。Through the photo-chemical maching process and plsam modification, the microfluidic chips were prepared with photo-active glass-ceramic as substrate and poly（dimethylsiloxane） （PDMS） as cover plate. The results show that the fabrication process of the microfluided chip is simplified, and the electroosmosis property is steady. The viloeity of the electroosmosis of the microfluided chip is growing with the increasing of the buffer concentration, and the using of surfactants could improve the vilocity of the electroosmosis. The voltage within 1 800 V has good line relationship with the vilocity of the electroosmosis.

关 键 词：光敏微晶玻璃 PDMS 微流控芯片 电渗 

分 类 号：TN304[电子电信—物理电子学]