基于AFM刻蚀的金属氧化物纳米结构构筑  

作　　者：朱晓阳[1] 程纲[1] 王书杰[1] 戴树玺[1] 万绍明[1] 张兴堂[1] 杜祖亮[1] 

机构地区：[1]河南大学特种功能材料教育部重点实验室,开封475004

出　　处：《中国科学（G辑）》2008年第9期1228-1235,共8页

基　　金：国家自然科学基金(批准号:90306010);教育部新世纪优秀人才计划(编号:NCET-04-0653);国家重点基础研究计划(编号:2007CB616911);河南省科技厅基础与前沿技术研究项目(编号:072300420100)资助

摘　　要：利用原子力显微镜(AFM)接触模式机械刻蚀的方法,在双层金属Pt/Cu电极表面进行纳米结构的构筑,通过分析不同加工参数(针尖上施加的载荷大小,扫描速度,循环次数)对加工结构尺寸的影响,能得到结构尺寸任意控制的纳米图案.通过在空气中自然氧化和选择合适的参数,得到了铂-氧化铜-铂的纳米结构.用导电模式AFM和摩擦力图像对该结构进行了原位检验,发现在加工区域内出现了明显的半导体特征,对应的摩擦力图像同样直观显示出这种结构是由两种不同材料构成.结果表明采用这种特殊的AFM刻蚀方式,可作为加工新型金属氧化物半导体纳米电子器件的重要手段.

关 键 词：原子力显微镜 机械刻蚀 纳米结构 Pt/Cu薄膜 

分 类 号：TB383.1[一般工业技术—材料科学与工程]