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机构地区:[1]天津城市建设学院环境与市政工程系,天津300384
出 处:《天津城市建设学院学报》2008年第4期259-262,共4页Journal of Tianjin Institute of Urban Construction
基 金:天津市自然科学基金重点资助项目(07JCZDJC01700)
摘 要:研究了UV/Fenton反应对氟喹诺酮类抗生素诺氟沙星的降解与矿化过程.内容包括:H2O2,Fe2+的初始浓度、pH值等因素对UV/Fenton反应的影响.结果表明,对于UV/H2O2/Fe2+反应系统的诺氟沙星的降解,其降解速率受反应条件的强烈影响.诺氟沙星初始浓度为25mg/L时,适宜的操作条件是:初始pH值为4,FeSO4浓度为0.72mmol/L,H2O2浓度为23.50mmol/L.对要求总有机碳(TOC)去除率高的氟喹诺酮类抗生素的处理,UV/Fenton类型反应在技术上是可行的.The degradation and mineralization of fluoroquinolone antibiotics norfloxacin by UV/Fenton processes is investigated. The degradation rate is strongly dependent on the pH, initial concentrations of Fe^2+ and H2O2. Result shows that with initial concentration of 25 mg/L, the optimum conditions are obtained at pH 4 for the UV/H2O2/Fe^2+ systems. The optimum concentration of FeSO4 is 0.72 mmol/L and H2O2 is 23.50 mmol/L. It is suggested that reactions of UV/Fenton type are available techniques for the treatment of such types of fluoroquinolone antibiotics which requires high levels of TOC removal.
关 键 词:高级氧化反应 UV/FENTON 抗生素 诺氟沙星 光氧化 矿化
分 类 号:X703[环境科学与工程—环境工程]
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