真空蒸发沉积特薄铝箔  

作　　者：董守信[1] 杨志强[1] 徐忠艳[1] 

机构地区：[1]东北轻合金加工厂科研所

出　　处：《轻合金加工技术》1998年第1期12-15,共4页Light Alloy Fabrication Technology

摘　　要：真空蒸发沉积特薄铝箔的方法是在真空下将铝丝加热到蒸发点使铝蒸发，然后沉积在冷却的、运动的介质上，形成一极薄连续均匀的膜，并用化学方法将膜从介质上分离下来，从而制得特薄铝箔，箔的厚度是通过控制真空度、介质运动速度、铝丝送料速度来完成的。能制得０．

关 键 词：真空度 蒸发沉积 孔隙度 特薄 铝箔 真空镀膜 

分 类 号：TG146.21[一般工业技术—材料科学与工程] O484[金属学及工艺—金属材料]