超导薄膜螺旋生长结构对临界电流密度的影响  

INFLUENCE OF THE SPIRAL GROWTH STRUCTURE OF SUPERCONDUCTING FILMS ON CRITICAL CURRENT DESITY

作　　者：粟飙[1] 王又青[1] 王秋良[1] 安承武[1] 范永昌[1] 陆冬生[1] 

机构地区：[1]华中理工大学激光技术国家重点实验室

出　　处：《低温物理学报》1998年第2期114-118,共5页Low Temperature Physical Letters

摘　　要：本文用扫描隧道电子显微镜（ＳＴＭ）和原子力显微镜（ＡＦＭ）观察了在不同实验条件下利用激光沉积技术制备的ＹＢａ２Ｃｕ３Ｏ７－ｘ超导薄膜的微观结构，并分析了薄膜结构与超导电性的关系．螺旋生长结构能减少薄膜中的弱连结和在薄膜中形成磁通钉扎中心，因此使超导薄膜的临界电流密度比同类超导体材大得多．研究结果表明，是否有螺旋式生长结构和这种结构发育是否完全是超导薄膜性能好坏的一个重要标志．Abstract In situ laser deposition was used to fabricate YBa 2Cu 3O 7- x superconducting films on YSZ substrates. The surface topography of YBa 2Cu 3O 7- x thin films have been studied with both atomic force microscopy(AFM) and scanning tunneling microscopy(STM). The experimental results show that the spiral growth structure is an intrinsic character of excellent superconducting films. The feature of spiral growth structure of superconducting films can explain their capacity to carry higher critical current density than wires.

关 键 词：超导体薄膜 YBCO 微观结构 临界电流密度 

分 类 号：TM262.014[一般工业技术—材料科学与工程] O511[电气工程—电工理论与新技术]