提高亚半微米微细图形光刻分辨力的新技术(Ⅰ)  

作　　者：罗先刚[1] 陈旭南[1] 姚汉民[1] 

机构地区：[1]中国科学院光电技术研究所

出　　处：《物理》1998年第4期219-222,共4页Physics

摘　　要：介绍了目前用于提高亚半微米投影光刻机成像分辨力、增大焦深的新技术及主要研究方向．对大数值孔径和短波长技术、倾斜（离轴）照明技术、相移掩模技术、光瞳滤波技术、多焦面曝光技术以及表面成像技术的原理和现状作了较为详细的阐述，通过与现有技术及条件比较，提出了研制亚半微米光刻机应采用的技术途径．

关 键 词：分辨力 焦深 大数值孔径 短波长 光刻 亚半微米 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]