FeMnSi基合金中层错几率的X衍射线形分析法测定  

作　　者：漆璿[1] 江伯鸿[1] 徐祖耀[1] 

机构地区：[1]上海交通大学,上海200030

出　　处：《理化检验（物理分册）》1998年第2期16-18,共3页Physical Testing and Chemical Analysis(Part A:Physical Testing)

基　　金：国家自然科学基金重点项目(59331020)

摘　　要：堆垛层错是一种对金属、合金的相变及某些性质有重要影响的晶体缺陷。用X射线衍射线形分析法可以测定金属合金中的层错几率。本文采用近似函数法和付立叶分析法测定了FeMnSi基形状记忆合金中的层错几率,得到了有规律的结果;同时,将两种方法所得的数据进行了比较,并讨论了近似函数的选择和工具线宽对层错几率计算结果的影响。

关 键 词：形状记忆合金 层错几率 线形分析 铁锰硅基 

分 类 号：TG139.6[一般工业技术—材料科学与工程] TG115.222[金属学及工艺—合金]