闪光机照射量及其角分布的参量依赖关系  

DEPENDENCE OF EXPOSURE FOR FLASH X RAY RADIOGRAPHY ON ELECTRON BEAM PARAMETERS

作　　者：施将君[1] 李献文[1] 刘军[1] 

机构地区：[1]中国工程物理研究院流体物理研究所

出　　处：《强激光与粒子束》1998年第1期108-112,共5页High Power Laser and Particle Beams

基　　金：中国工程物理研究院科学基金

摘　　要：系统研究了电子束能量、发射度、击靶半径和电子束横向分布对闪光机靶前１ｍ处Ｘ射线的照射量及其角分布的影响。研究结果表明，电子束能量、发射度、击靶半径的影响很大。The effects of energy,emittance,radius on target,and transverse distribution of an electron beam on the exposure at a meter from target and on the exposure angular distribution are reaserched in the paper.It is found that the effects of the parameters,especially of energy,emittance,and radius on target,are serious and must be considered in the design of flash X ray radiographic machine.

关 键 词：闪光机照射量 电子束参量 照射量的角分布 

分 类 号：TL501.5[核科学技术—核技术及应用] TL99