低浓度硝酸镍间接化学镀镍工艺的研究  

Research of Indirect Electroless Nickel Plating using Low Concentration Nitrate Nickel

作　　者：胡睿[1] 杨玉青[1] 王关全[1] 熊晓玲[1] 张华明[1] 

机构地区：[1]中国工程物理研究院核物理与化学研究所,四川绵阳621900

出　　处：《表面技术》2009年第2期57-59,共3页Surface Technology

基　　金：中国工程物理研究院科学技术发展基金资助项目(2007A02001)

摘　　要：在传统化学镀镍工艺中，硝酸镍不是直接施镀的主盐，但在一些特殊使用需求的情况下只能使用硝酸镍作原料。研究了以硝酸镍为原料，通过不同的沉淀剂，采用离心-沉淀-再溶解法以及灼烧法将硝酸镍转化成硫酸镍，将硝酸根去除后间接实现化学镀镍。研究结果表明：采用草酸工艺可以得到镍离子转化率高、硝酸根除去效果好的硫酸镍溶液，采用该溶液配制的化学镀镍液制备出的镀层具有均匀、致密，粒径1～2μm，双面沉积量大于5mg／cm^2，含镍量72％以上等特征。Nitrate nickel isnt the main compound of electroless nickel, but it is the necessary material for some conditions. Aiming to use nitrate nickel as the electroless nickel material, transformed it into sulfate nickel taking on centrifugal-precipitation-redissolution and pyrogenation. The experimental shows that adopting oxalic acid as the precipitator can prepare the even, compact, diameter of 1 μm - 2μm, nickel-plate which nickel content 〉 72% and quantity of deposition 〉5 mg/cm^2.

关 键 词：化学镀镍 硝酸镍 镀层 

分 类 号：TQ153.1[化学工程—电化学工业]