等离子喷涂氧化锆涂层封孔处理的研究现状  被引量:1

Research Status of Sealing Treatments to Zirconia Coatings by Plasma Spraying

在线阅读下载全文

作  者:张志彬[1] 阎殿然[1] 高国旗[1] 高杨[1] 安雪川[1] 张乾[1] 

机构地区:[1]河北工业大学,天津300130

出  处:《佛山陶瓷》2009年第3期37-41,共5页Foshan Ceramics

摘  要:本文分析了等离子喷涂氧化锆涂层中存在孔隙的原因,介绍了降低涂层孔隙率的方法,并指出了未来氧化锆涂层封孔技术的发展方向。This paper analyses the causes why zirconia coatings by plasma spraying have the porosity, and introduces the ways to decrease the coatings porosity ratio. The paper also points out the future development direction of sealing treatments to zirconia coatings.

关 键 词:等离子喷涂 氧化锆涂层 封孔处理 

分 类 号:TQ174.6[化学工程—陶瓷工业]

 

参考文献:

正在载入数据...

 

二级参考文献:

正在载入数据...

 

耦合文献:

正在载入数据...

 

引证文献:

正在载入数据...

 

二级引证文献:

正在载入数据...

 

同被引文献:

正在载入数据...

 

相关期刊文献:

正在载入数据...

相关的主题
相关的作者对象
相关的机构对象