用全反射X荧光技术分析釉药粉末  

作　　者：刘恺[1] 邬旭然[1] 郑素华[1] 田宇纮[1] 

机构地区：[1]烟台大学物理系,烟台264005

出　　处：《分析化学》1998年第3期370-370,共1页Chinese Journal of Analytical Chemistry

关 键 词：全反射X荧光 釉药 分析 釉料 TXPF 

分 类 号：TQ174.43[化学工程—陶瓷工业]