光学薄膜参数测试  

出　　处：《中国光学》2001年第4期75-76,共2页Chinese Optics

摘　　要：O484.5 2001042763磁控溅射Ge/Si多层膜X射线低角衍射界面结构分析=Interfacial structure analysis of Ge/Si multilayer filmsfabricated by rnagnetron sputtering[刊,中]/李宏宁,毛旭,杨宇(云南大学材料科学与工程系.云南,昆明(650091))//光电子·激光.-2000,11(1).-72-75对磁控溅射不同结构的Ge/Si多层膜样品进行了X射线衍射的测试和分析,并进一步采用有过渡层的光学多层膜衍射模型对衍射谱进行了拟合。

关 键 词：多层膜 磁控溅射 结构分析 光电子 材料科学 衍射模型 过渡层 扩散层厚度 云南大学 光学薄膜 

分 类 号：O484.41[理学—固体物理]