Cr-N薄膜结构和光学常数的研究  

作　　者：成钢[1] 陈金全[1] 曾卫东[1] 

机构地区：[1]桂林电子工业学院基础部,广西桂林541004

出　　处：《广西物理》1999年第3期40-43,39,共5页Guangxi Physics

基　　金：桂林电子工学院青年教师科研基金

摘　　要：利用空心阴极离子镀（ＨＣＤ） 技术在硅片上镀一层均匀Ｃｒ＿Ｎ 薄膜。用Ｘ 射线衍射技术（ＸＲＤ） 分析了氮气分压对沉积的Ｃｒ＿Ｎ薄膜结构的影响。用椭偏测量术对Ｃｒ＿Ｎ

关 键 词：Cr_N薄膜 结构 光学常数 

分 类 号：O484[理学—固体物理]