Cu的束箔光谱测量  

在线阅读下载全文

作  者:曾宪堂[1] 杜树斌[1] 李景文[1] 江历阳[1] 姚淑德[2,3] 赵迎春[2,3] 王友德[2,3] 马新文[2,3] 刘惠萍[2,3] 

机构地区:[1]中国原子能科学研究院核物理所 [2]北京大学技术物理系 [3]中国科学院近代物理研究所

出  处:《原子与分子物理学报》1998年第S1期59-59,共1页Journal of Atomic and Molecular Physics

基  金:国家自然科学基金;核科学基金;中国工程物理研究院院外基金;CRAAMD资助

摘  要:用2.2米掠入射真空紫外单色仪和束箔技术,在原子能院HI-13串列加速器上测量了110MeV和80MeVCu的光谱。谱仪置于与束流90°方向,光栅为600槽/mm,入射狭缝距束流中心线为4.5mm,碳膜厚为18μg/cm2,束流在800-1200nA...

关 键 词:束箔光谱 入射狭缝 束箔技术 串列加速器 真空紫外 中国工程物理研究院 近代物理研究所 光谱测量 国家自然科学基金 中国科学院 

分 类 号:O562.3[理学—原子与分子物理]

 

参考文献:

正在载入数据...

 

二级参考文献:

正在载入数据...

 

耦合文献:

正在载入数据...

 

引证文献:

正在载入数据...

 

二级引证文献:

正在载入数据...

 

同被引文献:

正在载入数据...

 

相关期刊文献:

正在载入数据...

相关的主题
相关的作者对象
相关的机构对象