诱导透射干涉滤光片的设计及其镀制工艺  

作　　者：黄祥成[1] 张怀武[1] 

机构地区：[1]西安应用光学研究所

出　　处：《应用光学》1989年第5期53-59,共7页Journal of Applied Optics

摘　　要：介绍可见光区诱导透射滤光片(简称ITF)的设计和镀制方法,给出透射率随膜层变化的部分理论曲线和实验曲线,讨论金属Ag层厚度和间隔层的变化对ITF透射率和截止宽度的影响。应用直透法监控层厚的工艺,第一间隔层最终控制在透射率高于起始点0.5—0.7％左右时较佳。镀Ag时厚度最终控制在其透射率起始下降到最低点附近较为适宜。

关 键 词：干涉滤光片 透射率 膜系 光学常数 间隔层 监控层 理论曲线 实验曲线 薄膜光学 工艺条件 

分 类 号：O439[机械工程—光学工程]