反应离化团束沉积技术及其在薄膜制备中的应用  

Reactive Ionized Cluster Beam Deposition and Its Application in the Films Growth

作　　者：王琼[1] 张观明[1] 

机构地区：[1]武汉大学理学院

出　　处：《半导体杂志》1998年第2期43-48,共6页

摘　　要：反应离化团束沉积技术是在离化团束沉积技术基础上加入了反应材料。本文讨论了簇团的产生、离化、加速，成膜的机制，及其在薄膜制备中的应用。Reactive ionized cluster beam deposition is based on ionized cluster beam deposition with reactive materials. The formation、ionizing、accelerating of the clusters and the formation mechanism of the films are discussed. The application of this technology is also mentioned.

关 键 词：R-ICBD 离化团束沉积 薄膜 制备 

分 类 号：O484[理学—固体物理]