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作 者:李夕金[1] 程国安[1] 薛文斌[1] 郑瑞廷[1] 田华[1] 程云君[2]
机构地区:[1]射线束技术及材料改性教育部重点实验室,北京师范大学材料科学与工程系,北京100875 [2]钢铁研究总院TiAl系金属间化合物研究中心,北京100081
出 处:《粉末冶金材料科学与工程》2009年第2期115-118,共4页Materials Science and Engineering of Powder Metallurgy
基 金:国家自然科学基金资助项目(10575011)
摘 要:以Al(NO3)3乙醇溶液为电解液,采用阴极微弧放电沉积方法,在TiAl合金表面制备连续的Al2O3薄膜,并对膜的结构与性能进行研究。利用扫描电镜(SEM)观察到样品表面分布着熔融状颗粒,颗粒的平均直径约20μm,颗粒中间有小孔存在。X射线衍射(XRD)分析表明氧化膜的相成分主要为α-Al2O3和γ-Al2O3相,还有少量的ε-Al2O3相;氧化膜中α-Al2O3和γ-Al2O3的相对含量随着制备电压改变而变化。显微划痕实验测得膜与TiAl基体之间结合力大于20 N,表明制得的氧化膜与基体有良好的结合力。900℃的高温氧化实验表明氧化膜能够有效地提高基体的抗氧化性能。Continuous Al2O3 coating was fabricated on TiAl alloy by cathodic microarc deposition method with Al(NO2)3 ethanol solution as electrolyte. Morphology and constitution structure were analyzed by X-ray diffraction (XRD) and scanning electronic microscope (SEM). The experimental results showed that the coating is mainly consisted of α-Al2O3 and γ-Al2O3 phases besides low contents of ε-Al2O3 phase, the adhesive force between the coating and substrate is over 20 N measured by micro-scratch tester. Isothermal oxidation at 900℃ revealed that the oxidation resistance of the coated TiAl is improved.
关 键 词:阴极微弧沉积 TIAL合金 Al2O3膜 高温氧化
分 类 号:TG146.2[一般工业技术—材料科学与工程] TG174.45[金属学及工艺—金属材料]
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